MSP’s NanoSilica™ Size Standards are concentrated suspensions of amorphous SiO2 particles with highly uniform size distributions, suspended in ultra-pure water (UPW). NanoSilica Size Standards are available in 26 nominal sizes ranging from 15 to 200 nm, with size distributions narrower than commercially available PSL spheres. They’re provided in 5-mL quantities in dropper-tip bottles for convenience when mixing suspensions. All NanoSilica standards come with a Certificate of Calibration and Traceability and a Safety Data Sheet with handling and disposal instructions.
Silica is the material of choice for calibrating high-sensitivity inspection systems with intense DUV light sources because they are stable under exposure to DUV radiation. PSL (polystyrene latex) absorbs DUV radiation and volatilizes, so PSL spheres shrink upon inspection.
While our NanoSilica Size Standards are well suited for use in MSP Particle Deposition Systems and other particle deposition tools, they’re also excellent for calibrating DMAs, optical (laser) particle counters and other particle instruments. With a lower refractive index than PSL, they’re more representative of real-world particles.
Features and Benefits
· Extremely uniform size distribution
· Modal diameter measured with SI traceability
· Symmetric size distributions
· Stable when subjected to intense DUV radiation
· High particle number concentration
· Easy to use
· Stable dilutions
Applications
· Wafer and reticle (photomask) inspection tool calibration
· Inspection tool development and qualification
· Incoming bare wafer inspection/qualification
· Blanket film monitoring
· Incoming reticle (photomask) inspection/qualification
· Production reticle (photomask) monitoring
· Process tool qualification and monitoring
· Particle counter calibration
· 二氧化矽奈米懸浮液二氧化矽奈米懸浮液
· 特色與效益 NanoSilica™ 微粒子標準溶液是由MSP Corporation製作的高度均勻尺寸SiO2微粒子濃縮水溶液，微粒子尺寸從18nm到200nm都可選擇，是市面上最理想、高品質的校正標準，適用於最新一代的晶圓表面污染/缺陷檢查系統及光罩檢查系統。
最先進的半導體檢查技術已經發展到小於30nm，以往使用Polystyrene latex (PSL)球形化粒子即可做晶圓表面污染/缺陷檢查系統及光罩檢查系統的校正，但新一代的檢查系統使用到Deep ultraviolet (DUV) or Extreme ultraviolet (EUV)才能檢查小於20nm的污染或缺陷，當UV光重覆打在PSL球形化粒子上，將影響到PSL球形化粒子的品質; 由於SiO2微粒子在DUV及EUV的照射下擁有穩定的品質，因此SiO2微粒子是最佳的替代產品。
· DESCRIPTION
· 產品敘述
NanoSilica™ 微粒子標準溶液是由MSP Corporation製作的高度均勻尺寸SiO2微粒子濃縮水溶液，微粒子尺寸從18nm到200nm都可選擇，是市面上最理想、高品質的校正標準，適用於最新一代的晶圓表面污染/缺陷檢查系統及光罩檢查系統。
最先進的半導體檢查技術已經發展到小於30nm，以往使用Polystyrene latex (PSL)球形化粒子即可做晶圓表面污染/缺陷檢查系統及光罩檢查系統的校正，但新一代的檢查系統使用到Deep ultraviolet (DUV) or Extreme ultraviolet (EUV)才能檢查小於20nm的污染或缺陷，當UV光重覆打在PSL球形化粒子上，將影響到PSL球形化粒子的品質; 由於SiO2微粒子在DUV及EUV的照射下擁有穩定的品質，因此SiO2微粒子是最佳的替代產品。
NanoSilica™ 微粒子標準溶液是使用有專利的SiO2合成技術，可以做到如PSL球形化粒子一樣的尺寸分布，從目前最小的微粒子尺寸來看，NanoSilica™ 微粒子標準溶液是尺寸最均勻，適合做尺寸大小峰值的量測的工具。
NIST-traceable NanoSilica™ 微粒子標準溶液是MSP Corporation透過National Institute of Standards and Technology (NIST)追溯到標準單位的產品，加上ISO 9000與SEMI的認證，讓良率提升及表面檢查和缺陷評估有所依據。
NanoSilica™ 微粒子標準溶液使用15-mL滴定，讓使用者操作更方便。每一瓶溶液的標籤皆標示產品編號、生產編號、微粒子尺寸峰值、尺寸分布半高寬及有效期限，而且提供NIST-traceable證明書與Material Safety Data Sheet (MSDS)說明書。
產品優勢
· 尺寸大小分布均勻
· NIST traceability 的尺寸大小
· DUV及EUV的照射下擁有穩定的品質
· 高濃縮度微粒子懸浮溶液
· 產品效益
· 易於微粒子撒粒系統、晶圓表面污染/缺陷檢查系統或各類分析儀器偵測與量測尺寸峰值
· 可避免平均尺寸與尺寸峰值的差異性
· 適合氣膠產生設備使用
· 提供耐久校正標準給先進的檢測設備使用
· 省錢而且耗用量少
